XY軸配置システム

回転式レーザー真空

8ステーション半導体ウェーハインデクサ このシステムは、高温での2インチまたは3インチの半導体ウェーハのイオンビーム加工用に特別に設計されました。 これは、高精度 DC 電源と索引付けシステムを備えた卓上炉で構成されています。索引付けシステムは、ウェーハの位置を正確に制御し、実行ごとに8つのウェーハのバッチ処理を可能にします。 ウェーハはヒーターに回転し、イオンビーム加工が開始する前に数秒で加熱されます。 温度は、加熱されたウェーハの表面温度を読み取る光学式高温計によって制御されます。 大きなアクセスポートにより、イオンビーム計測器の取り付けが可能です。 炉は、真空システム、不活性ガスシステム、インデックスサーボ制御、温度制御および水冷却を備えた完全なターンキーシステムです。