マグネトロン スパッタリング式貯蔵マシン UNIvap

熱蒸発によるイオン ビーム補佐薄膜

- スタンドアローンシステム - コンパクトで費用対効果の高いソリューション - 簡単な構成設計 - 共蒸着が可能 - 最大 +/-3 % の均一性 (特定の形状設計では最大 +/1 %) - 2種類の標準サイズUNIvap 4SとUNIvap 5S - 最大8つの蒸着ソースが可能 - 基板サイズ：最大100x100mmまたは直径100mm（UNIvap 4S）。UNIvap 4Sは100mm（4インチ）。 - 基板サイズ：150x150 mmまたは直径150 mm (6") まで。150 mm (6インチ) UNIvap 5S用 - OLED/有機エレクトロニクス - OPV