チャンバー炉 LV series
予熱焼成用ガス

チャンバー炉
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特徴

形状
チャンバー
機能
予熱, 焼成用
熱源
ガス
雰囲気
真空
その他の特徴
実験用
温度

1,100 °C
(2,012 °F)

容量

5 l, 10 l, 15 l, 25 l
(1.32 gal, 2.64 gal, 3.96 gal, 6.6 gal)

385 mm, 415 mm
(15.16 in, 16.34 in)

高さ

735 mm, 790 mm, 845 mm
(28.94 in, 31.1 in, 33.27 in)

奥行き

360 mm, 420 mm, 485 mm, 585 mm
(14.17 in, 16.54 in, 19.09 in, 23.03 in)

詳細

灰化炉 LV ../11 は、ラボラトリーにおける最高温度 1050 °C までの灰化プロセス用に特別設計されています。用途としては、例えば、焼鈍中の重量減検出、物質分析のための食品やプラスチックの焼却などがあります。特殊給気・排気システムによって、1 分当たり 6 倍の空気交換を達成し、灰化プロセスのために十分な酸素を常に確保します。送り込まれた空気は炉の加熱装置を通過して予熱されます。こうすることで、優れた温度均一性を確保します。 標準タイプ • 二面加熱方式 • 加熱線が内蔵されたセラミック製加熱プレート、保護されており、容易に交換できます。 • 1分につき6回以上の空気入換え • 流入する空気を予熱することで優れた温度均一性を確保します。事前定義された空の有効空間内の DIN 17052-1 に準拠する温度均一性は +/- 10 °C です(550 °C 以上)。 • EC 規則 No 1272/2008(CLP)に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 • 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング • ISO、ASTM、EN、および、DIN 規格に準拠する多くの標準化された灰化プロセスに最適です • 置き台として利用可能な前開き扉(LV)、または値段の追加なしの上下スライド式扉(LVT)の選択可能、後者では高熱部はユーザー操作の扉裏側に位置 • コントローラ B510(それぞれ 4 つのセグメントのある 5 つのプログラム) • 半導体リレーによる低騒音の加熱動作 • 操作説明書の枠内における規定どおりの使用 • ナーバサーム・コントローラー用NTLog Basic、プロセスデータをUSBスティックに記録

カタログ

Laboratory
Laboratory
64 ページ
*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。