エレクトロニクスの著しい進歩により、デバイス領域、ナノメートルオーダーでの熱伝導率の評価をも要求されるようになりました。高速化・高集積化に伴う発熱の問題解決や、性能向上のためには熱物性の情報が不可欠であるためです。その応用範囲は、半導体の層間絶縁膜、相変化記録膜、照明用LED、FPD用透明導電膜や、性能指数向上のための熱電薄膜など、きわめて多岐にわたります。
このような要請に対応すべく、日本では、(国研)産業技術総合研究所によって長年にわたって開発がすすめられてきましたが、レーザーフラッシュ法を超高速化した「パルス光加熱サーモリフレクタンス法」によって世界で初めて薄膜の熱拡散率・熱伝導率の絶対測定に成功しました。
そして、産総研発のベンチャーカンパニーである株式会社ピコサームより、ナノ秒レーザー・サーモリフレクタンス法装置「NanoTR」、ピコ秒レーザー・サーモリフレクタンス法装置「PicoTR」として製品化されました。
2014年、株式会社ピコサームとNETZSCH Japan株式会社のコラボレーションにより、同製品の世界的な販売展開を開始いたしました。2021年に、NETZSCH Japan株式会社は株式会社ピコサームを吸収合併し当社の薄膜熱物性システムの販売サービスを全世界的な展開を開始致しました。
ピコサームブランドのサーモリフレクタンス法装置とNETZSCH社のレーザーフラッシュアナライザーにより、ナノ薄膜よりバルクまで、すべての領域の熱物性測定のソリューションをご提供いたします。
エレクトロニクスの著しい進歩により、デバイス領域、ナノメートルオーダーでの熱伝導率の評価をも要求されるようになりました。高速化・高集積化に伴う発熱の問題解決や、性能向上のためには熱物性の情報が不可欠であるためです。その応用範囲は、半導体の層間絶縁膜、相変化記録膜、照明用LED、FPD用透明導電膜や、性能指数向上のための熱電薄膜など、きわめて多岐にわたります。
このような要請に対応すべく、日本では、(国研)産業技術総合研究所によって長年にわたって開発がすすめられてきましたが、レーザーフラッシュ法を超高速化した「パルス光加熱サーモリフレクタンス法」によって世界で初めて薄膜の熱拡散率・熱伝導率の絶対測定に成功しました。
そして、産総研発のベンチャーカンパニーである株式会社ピコサームより、ナノ秒レーザー・サーモリフレクタンス法装置「NanoTR」、ピコ秒レーザー・サーモリフレクタンス法装置「PicoTR」として製品化されました。