接触角測定器 SURFTENS HL

プロセス半導体産業用

SURFTENSのHL -半導体技術でテストする専門のウエファー 接触角のメートルSURFTENSHLはウエファーのコーティングのプロセス制御のための半導体の企業そして研究、特にとphotolithographicプロセスの使用のために設計されている。 それは次の特徴によって特徴付けられる: 接触角の速く、容易な測定、 スペース節約の構造 ウエファーの接触角の配分の速い地図を描くことのための特別なテーブルの構造 直観的な操作を用いるソフトウェア 議定書とビデオ・イメージの測定の結果の快適なドキュメンテーション、 必要であればウー/仕事の理論による自由な表面エネルギーの計算 ラップトップまたはPCとの任意使用 SURFTENSのHL -適用 シリコンの薄片のぬれる行動の修正は半導体技術の標準的なプロセス ステップである。プロセス性格描写のため、科学技術変数および生産管理の調節。従ってそれは絶対に必要、修正プロセスの前後に接触角および表面の自由エネルギーを客観的そして正確に測定するためにである。 このため強く、使いやすい接触角の計器は必要である。SURFTENSHLは半導体技術の必要性を満たすために開発され、研究は簡単、短い訓練の後で可能な皆のため操作である。手操作はお買い得価格を保障する。 こうしてSURFTENSHLは標準的なプロセス制御で、また研究開発で、また使用される。