半導体産業用リトグラフシステム JetStep® G45

JetStep G45システムは、モバイル・ディスプレイ業界の厳しい要件に対応します。定評あるステッパー技術に基づき、最適化された性能と優れた所有コストを兼ね備えています。 製品概要 JetStep G45システムの特徴は、200mm。低歪み光学系と高速高精度モータの組み合わせにより、0.5μm以下のオーバーレイを実現します。 JetStep G45システムの拡大光学系は、6インチのレチクル（マスク）の使用を可能にし、競合技術と比較して、ツーリングコストを大幅に削減することができます。また、設置面積が小さいため、設備コストを最小限に抑えることができ、摩擦のない動作により磨耗が少なく、メンテナンスコストを削減することができます。これらにより、CAPEXとCost of Ownership（COO）が削減され、安価な製造工程を実現します。 仕様 - 高精細プロジェクションレンズと照明システムにより、1.5μmの解像度を実現 - 業界標準の6インチレチクルフォーマットにより、コスト効率の高い製造が可能 - 自動倍率制御によるプロセス・ウィンドウの拡大 - レチクル管理システム搭載により、最大限の利用が可能 - 現場での校正を可能にするオンボード計測パッケージ - パネル・トポロジーに応じてフォーカスを自動調整するオン・ザ・フライ・オートフォーカスを各露光部位に搭載 - システム性能とトラブルシューティングに関するフィードバックを提供するオンボード診断機能