アトラスは、FinFET、ゲートオールアラウンド(GAA)FET、3D NAND、DRAMなどの最先端デバイスを製造するためのメトロロジー・ツールです。
アトラスIII+は、計測性能をサブオングストロームの精度にまで高め、大量生産における幅広いアプリケーションで高度なプロセス制御を可能にします。Atlas シリーズは、独自の分光反射率測定と分光エリプソメトリのソリューションを組み込んでおり、業界をリードする Onto Innovation の Spectraprobe™ および AI-Diffract™ OCD 分析ソフトウェアと組み合わせることにより、重要な製造装置操作のプロセス制御を可能にします。Atlas III+ システムと AI-Diffract ソリューションは、エッチング、洗浄、蒸着、CMP の各工程における複雑な構造プロファイルを把握することができます。
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