ウェハー用計量システム IMPULSE+

CMP、蒸着、エッチング、リソグラフィーなどのアプリケーションにおいて、高感度と高スループットを両立する、業界をリードする光学系と機械学習ソリューションによる統合計測プラットフォームです。 IMPULSE+システムは、CMPプロセスの変動に対して最高の感度と精度を提供し、デバイスメーカーが高精度のフィードバックによるAPC制御ソリューションを確立することを可能にする統合計測の標準となるシステムです。OCDソリューションソフトウェアにより、デバイスとアクティブエリア内での直接測定が可能となり、ユーザーは微細なプロセスエクスカーションを監視し、より高い歩留まりのためにプロセスを最適化することができるようになります。 IMPULSE+システムは、AtlasおよびOCDソフトウェア解析ソリューションと連動し、モジュール間のプロセス最適化と工場全体の包括的なプロセス制御を可能にします。IMPULSE+システムは、DRAM、3D-NAND、CMOSイメージセンサ、ファウンドリ/ロジックデバイス製造の主要工程で広く採用されています。