ウェハー用計量システム Echo™

半導体用

ピコ秒超音波技術（PULSE™技術）は、金属膜測定の業界標準です。Echo™システムは、Onto Innovationの音響計測製品群の最新製品であり、複数の最先端デバイス分野でのリーダーシップを拡大するよう設計されています。 製品概要 エコーシステムは、最先端のロジック、メモリ、先端パッケージ、特殊半導体デバイスにおける単層および多層金属膜測定用の包括的なインライン金属膜測定ツールです。革新的な光学設計により、シングルプラットフォームで膜厚測定のダイナミックレンジを50Åから35µmまで拡張し、高アスペクト比の先進的な3D NAND構造の測定にも対応する拡張性を備えています。Expert Applications System (EASy™) ソフトウェアは、複雑な多層スタックをモデリングするためのユーザー定義アルゴリズムを柔軟に開発することができます。Echoシステムは、PULSEテクノロジーシステムの材料特性評価機能を拡張するものでもあります。BEOLの低誘電率膜のヤング率、3D NANDのアモルファスカーボンハードマスクに加え、Echoシステムにはインプラントモニターと熱伝導率特性評価用の最新のエレクトロニクスとアルゴリズムが搭載されています。小さなスポットサイズと高速測定の組み合わせにより、0.5mmエッジ除外までのフルウェハーマッピング機能を実現し、プロセス開発および最適化の際の情報回転と情報の質を向上させます。 仕様 - フェムト秒超高速レーザーを用いたインライン光音響計測 - 小さなスポットサイズ（8x10µm）により、15µmのサイトサイズでの測定が可能 - 金属膜の厚みは50Åから35µmが一般的 - 最大60wphの高スループット