光学顕微鏡 PT-ON200 series

産業用超解像度デジタル カメラ

顕微鏡の技術は、従来の光学ソリューションから高度な超解像顕微鏡へと進化している。通常の光学顕微鏡では、波長以下の構造を観察する能力は、1873年にエルンスト・アッベが発見したアッベの方程式（アッベの回折限界とも呼ばれる）によって制限される。顕微鏡の空間分解能は、光の波長の約半分である光回折によって制限される。可視光領域では約200nmです。超解像の光学イメージングは、今では多くの研究室で見られるようになりました。しかし、自然界の空気中で光学イメージングを行うには、～200nmの壁を超えることが常に制限されていました。2000年代初頭、ある研究者グループが「OMN（Optical Microsphere Nanoscopy）」と呼ばれる技術の開発に着手しました。OMNは、OptoNanoと名付けられた革新的な装置に組み込まれました。OptoNanoは、作業距離を制御できる世界初の大気中でのナノスケールのイメージングツールであり、137nmまでの解像度を持ち、サンプルの準備を必要としません。オプトナノ顕微鏡は、光学的限界を打ち破っただけでなく、超解像顕微鏡の高コストと複雑な操作性の壁をも打ち破った。これにより、このユニークな超解像顕微鏡技術を、研究所、生物化学研究者、産業界の生産現場など、さまざまなユーザーに採用してもらうための新たなパラダイムが開かれました。