リフローはんだ付け機 Mini

真空

研究用途向けの小型装置で、ギ酸還元を評価するために最適な 一台です。また、オプションを追加することにより用途の幅が 広がります。 1. ギ酸還元 フラックスレス・リフローでは水素還元が一般的でしたが、ギ酸還元はより低い 温度から効果が認められるため、酸化膜の除去とはんだの濡れ性確保に有利な プロセスです。 2. IRヒータ 一般的なホットプレートはプレート自体の熱容量が大きいことや、真空中での ワーク間の熱抵抗が大きいことから、高速昇温に適していません。 当社システムはIRヒータによる直接加熱を用いており、高速昇温が実現できます。