リフローはんだ付け機 MP2

自動高速真空

加熱と冷却を独立させた2チャンバ仕様の量産設備です。 処理スペース：W380 x D310 x H100mmと大型ワークまで搭載可能です。 フラックスレス・リフローでは水素還元が一般的でしたが、ギ酸還元はより低い 温度から効果が認められるため、酸化膜の除去とはんだの濡れ性確保に有利な プロセスです。 2. IRヒータ 一般的なホットプレートはプレート自体の熱容量が大きいことや、真空中での ワーク間の熱抵抗が大きいことから、高速昇温に適していません。 当社システムはIRヒータによる直接加熱を用いており、高速昇温が実現できます。