原子間力顕微鏡 NX-Mask

フォトマスクの修理用ナノスコープ自動

Park NX-Mask は、デバイスの微細化、フォトマスクの複雑化に対応した 新世代のフォトマスクリペアシステムです。 Park NX-Maskは、最先端の原子間力顕微鏡技術を取り入れたハイエンドEUVマスクのリペアに 対応する革新的なツールです。Park NX-Maskは、自動欠陥検査から欠陥のリペア、 リペアの検証までと、オールインワンソリューションを提供し、 これまでにないリペア効果で高スループットを実現します。. • あらゆる欠陥をシームレスに修復するため、破損のリスクを大幅に低減 • EUVマスクを扱うためのデュアルポッドに対応 • 欠陥の検査からリペア、そして検証まで行うオールインワンソリューション EUV光源からの光が反射する過程で、錫（Sn）などの粒子がマスクに到達し、光の反射率を低下させ、正確な転写プロセスが難しい場合がありますが、Park NX-Maskは、実績のあるナノメカニカルAFM技術を活用し、最も安全な方法でパーティクルや複雑なパターンの欠陥を発見および除去することができます。従来のフォトマスクリペアシステムとは異なり、マスク表面にダメージを与えたり、汚したりすることなくリペアを実行します。 安全性 • 電子ビームのチャージなし • 化学物質の不使用 • 真空不要 特長 • ナノメートル分解能と精度の高い修復 • 一つのシステムでサーベイスキャンから修復、検証まで完了 • リーズナブルな価格設定 Park NX-Maskは、最も安全なスキャン方法である独自の非接触AFM技術を使い、欠陥の位置を特定するサーベイスキャンを行います。サーベイスキャンにより、欠陥の大きさと正確な位置、および各パーティクルや欠陥に関する情報を取得します。リペアした後、Park NX-Maskは非接触型AFM技術でリペア後の検証を行い、ナノスケールの3Dトポグラフィーや表面粗さなどその他の測定データを出力します。