湿式処理クリーニングシステム Inception

溶媒スプレー酸

RENA Inceptionは、ウェットケミカルクリーニング、エッチング、レジストトリッピングプロセスのための理想的なソリューションです。このプラットフォームは、半導体製造における研究開発からパイロット生産への移行を可能にします。Inceptionは、FEoLにおける酸アプリケーションにも、BEoLにおける溶剤アプリケーションにも適用可能です。ウェーハ内、ウェーハ間、ロット間で1%未満の優れたエッチング均一性を実現します。 Inceptionは、独立した薬液ラインを持つデュアルムービングスプレーアームで構成されており、マルチタンクデザインと相まって、多段階処理機能を提供します。様々なアプリケーションに簡単にセットアップできるように、様々なウェーハや基板サイズに対応したチャックのバリエーションが用意されています。RENA 社の IDX Flexware ソフトウェアは、プロセスコントロールとモニタリングに多くの有利な機能を提供します。全てのRENAシステムはファクトリーホストのSECS/GEMインターフェースに準拠しています。 特徴と利点 最大 200mm のウェハーと最大 7 x 7 のマスクに対応。 バッチシステムを超えるエッチング均一性 マニュアルまたは自動ウェハーハンドリング シングルまたはデュアルロードポート 2～4液プロセスタンク 高精度濃度コントロール（ABB、Horiba、CI Semi） 高精度スパイク機能（ケミカル＆DI） 自動薬液補正機能 小さな設置面積