太陽電池用処理ライン InCellPlate®

化学

InCellPlate®は、シリコン上にNi/Cu/Agスタックを直接めっきするRENAの新しいインライン装置です。窒化シリコン層のレーザーアブレーションとその後のインラインアニールと組み合わせることで、太陽電池製造においてスクリーン印刷を必要としない完全な前面メタライゼーションを提供します。 特長と利点 生産ツール - 最大5000枚/時 強固なメッキ金属導体 最大3.5Ct/セルのCoOメリット 標準的なスクリーン印刷セルと同等のコンタクト密着性 フラウンホーファーISEと業界パートナーによって確認されたモジュールの信頼性 実証済みのプラットフォームをベースとした、めっき技術に特化した高度な機械開発 シャドーイングの低減と低濃度エミッタ表面への接触による最大0.3%の効率向上 高オーミック均質エミッタの使用が可能 均質な金属分布による直列抵抗の低減 カスケード洗浄による低水量消費 PERC、TopCon、BSFセルで検証済み 特許取得済みの片面インラインめっき技術 ドライコンタクト（接触脱メッキ不要） 化学的ドラッグアウトとCoOの低減 ウェーハ裏面のドライ化によるAl裏面の劣化なし 技術パートナー イノラス・ソリューションズ先進のレーザーアブレーション装置 マクダーミド・エントーン高性能めっき化学