ALD貯蔵マシン PD-520 series

薄膜

AlO+SiN薄膜蒸着。 - 原子層蒸着プロセス、より良い膜の均一性。 - 同一プロセス装置または同一炉管で多層薄膜を蒸着し、プロセスステップとウェハー破損率を減らし、歩留まりを効果的に向上させる。 - 液体ソース前駆体の蒸気供給と前駆体の急速切り替え技術を独自に研究開発。 - 異なる前駆体や材料のパッシベーション層成膜に適しており、プロセス拡張のスペースが広い。