薄膜貯蔵マシン PD-1022/UD

アモルファスシリコン膜のイントリンシックとドープ。 プロセス イオン化された前駆体ガスが基板上に薄膜を堆積させる。 - 均一で安定した成膜のために、反射電力を最小限に抑えた迅速なRF点火。 - 大型プロセスチャンバーにも対応するRF技術で成熟した安定したマルチフィード。 - ディフューザーと基板間の連続調整可能なガスにより、フレキシブルなプロセスの可能性を提供。 - カスタマイズされた製品設計により、比較的低コストで高いスループットを実現。 - モジュール化された設計により、設置やメンテナンスが容易。