拡散されたシリコンウェーハのラップアラウンド除去とクリーニングに使用される。
プロセスフロー
ラップアラウンド除去→後洗浄→酸洗浄→後洗浄→酸洗浄→温水乾燥→乾燥(参考)
- 処理能力:400枚/バッチ、9600枚/h(210mmウェハ)、480枚/バッチ、12000枚/h(182mmウェハ)。
- 各種添加剤技術対応可能。
- ウェーハ厚みは120μmまで対応可能。
- ドライクリーンエリア、セルフクリーニングシステム搭載。
- 迅速なインラインバス交換。
- MES、RFIDシステム、インライン重量検査オプションあり。
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