チャンバー炉 CVI

熱処理化学蒸気浸透黒鉛

CVI（化学気相浸透）炉は、気相から炭素を飽和させることによってグラファイトなどの炭素材料を製造する技術であるCVIプロセスで使用される特別なソリューションである。 CVI炉は、多孔質材料への炭素層の制御された堆積を可能にするように設計されている。 CVI装置は、化学パラメーターと温度パラメーターが制御され、基板上に炭素層を堆積させるリアクターまたは反応チャンバーから構成される。 CVIは、炭素材料（通常は多孔質構造体）を気相中で飽和または含浸させるプロセスである。CVIプロセスでは、メタンやアセチレンなどの炭素質ガスを使用し、反応器内で反応させて基材表面に炭素堆積物を形成する。 CVI技術は、高性能車、スポーツカー、電気自動車、高級車用のカーボン製ブレーキディスクの製造に使用されている。ブレーキディスク製造の場合、このプロセスは、効果的なブレーキングに不可欠な、卓越した強度と低重量を備えた構造を作り出すことを可能にする。このプロセスを正確に管理することにより、CVIを使用して製造されたブレーキディスクは、優れた高温耐性、最小限の摩耗、優れた摩擦特性を有し、安全で効率的な車両の制動を保証します。