チャンバー炉

熱処理黒鉛化真空

CVD(化学気相成長)炉は、CVDプロセスで使用される特殊な炉で、気相中の化学反応によってコーティングを製造する技術であり、例えばMTS(CH3SiCl3-メチルトリクロロシランガス)から製造される。 CVD装置は、被処理物の表面に材料を制御しながら蒸着できるように設計されている。 CVD装置には反応チャンバーがあり、プロセスガスの温度、圧力、化学組成などのパラメータが制御される。 CVDは、気相での化学反応によって基材表面にコーティングを生成する技術である。 化学蒸着プロセス（CVD）は、例えば、保護コーティング（工具穴あけ）の製造に使用される技術である。CVD炉は工具に保護層を形成し、耐久性、強度、加工効率を向上させる。CVDプロセスでは、化学反応によって工具表面に層が堆積し、その特性が向上します。これらのコーティングは、耐摩耗性、耐高温性、耐腐食性に優れ、工具寿命の延長や工業生産時の効率向上につながります。