光起電性貯蔵マシン RTSP1200
マグネトロン スパッタリング式

光起電性貯蔵マシン
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特徴

方法
光起電性
技術
マグネトロン スパッタリング式

詳細

タンタルPVDの放出させるコータ、放出させるDCのマグネトロンPVDのタンタルのめっきによって沈殿するタンタルのフィルム タンタルは腐食へのよい抵抗のためにエレクトロニクス産業でそして多くの企業の保護層として最も広く利用されています。 放出させたタンタルのフィルムはで広く利用されています 1.フィルムとしてマイクロエレクトロニクスの企業は敏感に放出させ、こうして抵抗の抵抗そして温度係数は管理されます; 2. 非常にbiocompatabilityの特性のためのボディ インプラントのような医療機器; 3. thermowells、バルブ本体および締める物のような防蝕部分のコーティング、; 放出させたタンタルはdefectected有効な耐食性の障壁として保護するようにコーティングが連続的なら使用され、です基質に付着性意図されていますまたある場合もあります。 高貴な技術は2顧客の適用のためのモデルPVDマグネトロンの放出させるシステムを専ら設計し、造りました。 RTAS1200およびRTAS1000モデル。 Taの放出させる沈殿機械設計の特徴: 強い設計、安定した質、速い周期、速いサイクル時間、高い沈殿速度

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