真空貯蔵マシン RT-Multi950

光起電性PECVDスパッタリング式

Multi950機械特性: 密集した足跡、 標準的なモジュール設計、 適用範囲が広い、 信頼できる、 8の部屋、 よいアクセスのための2ドアの構造、 PVD + PECVDプロセス。 設計特微: 1. 柔軟性:アークおよび放出させる陰極、イオン源の取り付けフランジは適用範囲が広い交換のために標準化されます; 2.多様性:母材および合金の変化を沈殿できます;金属および非金属材料の基質の光学コーティング、堅いコーティング、柔らかいコーティング、混合のフィルムおよび固体注油フィルム。 3.簡単な設計:容易な維持のための2ドアの構造、前部及び背部開始。 Multi950機械はR & Dのためのカスタマイズされた倍数機能真空沈殿システムです。教授によって陳加鉛上海大学のチームによって半分年の議論によって私達は最終的に彼等の物を達成するために設計および構成をR & Dの適用確認しました。このシステムはPECVDプロセスの透明なDLCのフィルム、用具の堅いコーティング、および放出させる陰極が付いている光学フィルムを沈殿できます。この試験機械設計の概念に基づいて、私達はそしての後で3つの他の塗装システムを開発しました: 1. 燃料電池の電気車FCEV1213のための両極版のコーティング、 2.陶磁器銅板DPC1215を指示して下さい、 3.適用範囲が広い放出させるシステムRTSP1215。 この4つのモデル機械は8の部屋とのすべて、適用範囲が広いであり、信頼できる性能はさまざまな適用で広く使用されます。それはコーティング プロセスを要求します多異なった金属の層を満たします:Al、Cr、CU、Au、Ag、NI、Sn、SSおよび他の多くの非feeromagnetic金属; イオン源の単位と、効率的にあるカーボン ベースの層を沈殿させるために血しょうエッチングの性能の異なった基質材料のフィルムの付着を、PECVDプロセス高めれば。 Multi950は王族Tech.のための高度の設計塗装システムのマイル標石です。ここでは、私達感謝の上海大学感謝した学生および特にプロセスYigang陳、彼の創造的な、無私の献呈は無制限の価値で、私達のチームを促しました。 年2018年では、私達はPressor陳、C-60物質的な沈殿との別のプロジェクトの協同がありました 誘導の熱蒸発方法。私達はheartfully氏および陳の教授にあらゆる革新的なプロジェクトの導くことおよび指示感謝しますYimouヤン。