光起電性貯蔵マシン RTSP800-Au
スパッタリング式薄膜真空

光起電性貯蔵マシン
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特徴

方法
光起電性
技術
スパッタリング式
貯蔵方法
薄膜
その他の特徴
真空
応用
マイクロエレクトロニクス産業, 自動車用, 光起電用途用, ガラス コーティング用, 光起電モジュール用, ディスプレイ用, コンデンサー, 導体フィルム用

詳細

金はスライド ガラスに塗り、シリコンの薄片はsubstragesのAuの金属の薄膜の層を、のような沈殿させるために放出させるDCのマグネトロンのPVDプロセスを使用します:スライド ガラス、シリコンの薄片、金属の宝石類、鋼鉄の、ガラスおよび陶磁器製品等。 放出させるAuを除いてそれはまたAgの銀、CUの銅、Alアルミニウム、Cr クロム、伝導性のフィルムまたは高く贅沢な装飾の塗布のためのSSのステンレス鋼316L等を放出させることができます。 金の放出させる層の特徴: 1. 付着を改善するために推薦される基質間のチタニウムまたはCrの付着の層および金の層は強いです; 2. 金の層の厚さ:異なった光学適用に基づいて10~100nmから及びます。 3. roughtness (RMS -根の不偏分散) 4. 金の放出させる層の表面純度: きれいな表面は金の表面の修正を用いる適用に要求されます。PVDによって、真空、金の源の元の純度の水平システムで使用されて処理すれば、金の薄膜純度のレベルが非常に変えることができる特定システムで使用される金属の歴史。 減ることができる高度のコーティングの技術として80%まで生産費および最も重要の大きい表面の仕上げです。 Auの金のMangetronの放出させるシステムHightlights: 高貴な技術Ag金の放出させる機械はだれが高い生産性および簡単なコーティングの解決を捜しているか利用できますのために製造します。 強い設計、大きいバッチ、速い周期は、適用範囲が広いコーティング プロセスずっと高貴なチームが追求している基本設計の概念です。

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。