化学気相成長貯蔵マシン RT-Parylene Coating-CVD-1

パリレン真空光電子工学用

何がparyleneであるか。 それは透明な、無色ポリエステル保護材料である。それは室温で真空メッキのために適して、真空メッキ圧力は10-5トルの下にParyleneコーティング プロセスは約0.1トルであるが、ある。コーティングの厚さは1-100ミクロンの間で制御することができる。コーティングは米国によって1960年代初頭に開発されるパテントである。それは米国の軍のプリント基板の、宇宙航空および水中進水装置、米国の米国軍用規格に含まれていた1972のためのマイクロエレクトロニック部品の分野に最初に適用された: MIL-I-46058C マイクロおよびナノの加工技術:化学気相堆積（CVD） 粉にされたnano-materialsを真空のナノ コーティング装置の蒸発の部屋に入れ、気体分子に150℃-180℃の温度で蒸発させなさい。真空（1.0*10-2torr）の行為の下で、10nmの下の気体nanomoleculesは割れる部屋で割れることに入る、680°C-700°Cの高温は反応単量体に割れ、密な、ピンホールなしのナノ フィルムの層を形作るために活動的な単量体および単量体は再重合する。