化学気相成長貯蔵マシン RT-Parylene Coating-CVD-3
熱蒸発による薄膜パリレン

化学気相成長貯蔵マシン - RT-Parylene Coating-CVD-3 - Shanghai Royal Technology Inc. - 熱蒸発による / 薄膜 / パリレン
化学気相成長貯蔵マシン - RT-Parylene Coating-CVD-3 - Shanghai Royal Technology Inc. - 熱蒸発による / 薄膜 / パリレン
化学気相成長貯蔵マシン - RT-Parylene Coating-CVD-3 - Shanghai Royal Technology Inc. - 熱蒸発による / 薄膜 / パリレン - 画像 - 2
化学気相成長貯蔵マシン - RT-Parylene Coating-CVD-3 - Shanghai Royal Technology Inc. - 熱蒸発による / 薄膜 / パリレン - 画像 - 3
化学気相成長貯蔵マシン - RT-Parylene Coating-CVD-3 - Shanghai Royal Technology Inc. - 熱蒸発による / 薄膜 / パリレン - 画像 - 4
お気に入りに追加する
商品比較に追加する
 

特徴

方法
化学気相成長
技術
熱蒸発による
貯蔵方法
薄膜, パリレン
応用
医療用, 製薬用

詳細

高貴な技術は提供する ポリマー コーティング サービスそしてコーティング装置のための 防水コーティングParyleneナノのフィルムとのs。 Paryleneコーティングの技術は広く利用されている 宇宙航空、貴重な遺物、シリコーン ゴム、シール、磁気材料、MEMSのサーキット ボード、センサー、biomedicalおよび他の分野。Parylene上塗を施してあるプロダクトは強さおよび温度の絶縁材、摩耗の証拠、防蝕化学抵抗(薄くされた化学薬品)を高めることができる。私達の装置は世界中多くの大きい企業によって現在使用されている。 何がparyleneであるか。 それは透明な、無色ポリエステル保護材料である。それは室温で真空メッキのために適して、真空メッキ圧力は10-5トルの下にParyleneコーティング プロセスは約0.1トルであるが、ある。コーティングの厚さは1-100ミクロンの間で制御することができる。コーティングは米国によって1960年代初頭に開発されるパテントである。それは米国の軍のプリント基板の、宇宙航空および水中進水装置、米国の米国軍用規格に含まれていた1972のためのマイクロエレクトロニック部品の分野に最初に適用された: MIL-I-46058C マイクロおよびナノの加工技術:化学気相堆積(CVD) 粉にされたnano-materialsを真空のナノ コーティング装置の蒸発の部屋に入れ、気体分子に150℃-180℃の温度で蒸発させなさい。真空(1.0*10-2torr)の行為の下で、10nmの下の気体nanomoleculesは割れる部屋で割れることに入る、680°C-700°Cの高温は反応単量体に割れ、密な、ピンホールなしのナノ フィルムの層を形作るために活動的な単量体および単量体は再重合する。

カタログ

この商品のカタログはありません。

Shanghai Royal Technology Inc.の全カタログを見る
*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。