光起電性貯蔵マシン RTEP900

熱蒸発による薄膜真空

セシウムのヨウ素化合物の薄膜の熱蒸発のコーティングの性能 イメージ投射の超高い空間分解能; より鋭いイメージ投射のための速い応答; クラスの一流の端に端のイメージ区域; 光学吸収物の層か反射器の層; 低く忍耐強いX線の線量; 、特に医療産業のCCDおよびCMOS装置のために適した。 X線の撮像装置のためのCsIの薄膜の沈殿真空メッキ機械は良質をのイメージ投射与えるためにスクリーンのCsIを蒸発させる高度の技術である。核エネルギー区域等のsecuiry点検および点検、高エネルギー物理学のsubsject、物理学で広く利用された高リゾリューションのperformaceを使って、また。 CsIの薄膜の沈殿真空メッキ機械は医療機器が高いX線イメージ投射を得ることができるように専ら使用されて発達する。この機械の主な特長: 1. 超高度の最終的な真空圧力:6.0*10-5 Paまで; 2. よい付着のための速い暖房装置; 3. 空気で露出される物質的危険にさらすために避けるべき適切な高真空ポンプの選択およびポンプ施設管理; 4. 強く、密集した固体塗装システム; 5. 安定性が高い、960 hrsを停止なしで働かせる。