ビームエキスパンダ

レーザー

レーザービームエキスパンダは、長距離でのレーザーのビームスポットサイズを小さくしたり、より大きなコリメート出力のレーザービームを生成したりするために設計されています。レーザービームエキスパンダには、主に2つのタイプがあります。ケプラー式レーザービームエキスパンダまたはガリレオ式レーザービームエキスパンダです。ケプラー式は2枚のポスティブ焦点距離レンズで構成されているのに対し、ガリレオ式はポスティブ焦点距離レンズとネガティブ焦点距離レンズで構成されています。 より高度なレーザービームエキスパンダーでは、2枚以上のレンズを使用して球面省略を補正しています。どちらのビームエキスパンダも、エキスパンダパワーと呼ばれる一定のアニュラーマニファクションを提供します。ビーム径はまずこのパワーによって大きくなり、次に同じパワーによってビームの発散が減少します。 この組み合わせにより、ビームが大きくなるだけでなく、コリメートされたビームが得られます。 その結果、レーザー単独で使用する場合と比較して、遠距離でのビームが小さくなります。 レーザービームエキスパンダーは、所定の範囲でより大きなコリメートビームが必要な場合にも有用です。