レーザー力の監視(LPM)は絶えずオン軸線のモニタリング システム工程中の手段および文書ターゲットそして実際の出されたレーザーの出力である。それにより、どの既存の偏差でも互いに関連して記録され、表示される。
実際の出力のタイム ベースの測定は探知器の単位の光学ビーム道そして反射で連結を解くビームによって変えられる。システムは性能の遅い一定した偏差を、例えば半導体レーザーの潜在的故障による出力の敏感な光学部品か突然の低下に傷つくこと当然検出する。
一方で、モジュールは目標とされた手段の機械ダウンタイムを防ぐために早期警報システムとして不規則性が起こるとき使用することができる。一方では、それはプロセス ドキュメンテーションのおかげで品質保証のへの重要な貢献をする。
ターゲットおよび実際の出力は両方出力としてそのうちに表示される。それはまた両方の価値のパーセントの偏差を表示する。測定データは分析にすぐに利用でき、プロセスが完全なら解決はレポートを作成する。
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