ディスプレイなし温度コントローラー H3000

直接冷却式加熱プロセス

化学浴温調システム オンボード温度制御ユニットは、インラインヒーターやチラー/ヒーターに代わるものです。 ウェットベンチ内のプロセス液を直接加熱/制御します。 低流量、ワンパスの化学品温度制御 動作範囲: - 40°C ～ 90°C 周囲温度: - 10°C ～ 40°C 非凝結 安定性/繰返し精度： -±0.2℃（代表的な構成の場合 加熱能力: - 3000 ワット プロセス流体: -. H2SO4/H2O、SC1、SC2電気めっき浴に最適です。 その他のPFAテフロン互換流体 流量。 - 4-10 gpm (15-38 lpm) パラレルフロー（4:1フィッティング）で4-10 gpm 0.5-2 gpm (2-8 lpm) 直列流量で（低流量オプション 最大圧力： - プロセス。90 psig @40°C, 55 psig @90°C テフロン金具： - 3/4 "または1 "フレアテック、またはテフロンチューブのスタブ 湿潤材料。 - プロセス流体はHDPFAテフロンチューブのみを通過します。 サイズ(長さ×幅×高さ): - -. 17.5インチ×11.25インチ×4.65インチ（44.4cm×28.6cm×11.8cm）断熱材入り 16インチ×9.75インチ×3.15インチ（40.6cm×24.8cm×8.0cm）断熱材なし 電力要件 スイッチバック 6600 を DC 0-144V、0-24A に設定します。 規格 - セミS2-0200、F47準拠、CE 保証: - 2年