広範囲化学浴温調システム
オンボード温度制御ユニット; スイッチバック電源または電源/温度コントローラと連携し、リモートチラーを交換します。
低流量、ワンパス化学品温度制御
ウェットベンチ内のプロセス液を直接冷却します。
2~40リットルの半導体ケミカルバス用
動作範囲: - 10°C ~ 90°C
周囲温度: - 10°C ~ 40°C 非凝結
安定性/繰返し精度: -±0.05°C (代表的な構成の場合)
冷却能力: - 550 ワット @ 25°C、20°C 設備水を使用した場合
加熱能力: - 1500 ワット @ 25°C、20°C 設備の水で
プロセス液: - 50%までのHF溶液、有機溶剤、その他のPFAテフロン互換液、電気めっき浴
施設の水: -。
2-4 gpm (8-15 lpm) @ 10-35°C ろ過、処理済み
pH:6.5~8.2の施設冷却水の再循環
プロセス流体の流量。 -
4-10 gpm (15-38 lpm) パラレルフロー(4:1フィッティング)で4-10 gpm
0.5-2 gpm (2-8 lpm) 直列流量で(低流量オプション
最大圧力: -.
プロセス。90 psig
設備:100 psig
テフロン金具: - 3/4 "または1 "フレアテック、またはテフロンチューブのスタブ
施設の水継ぎ手 - 3/8 "メスNPT
湿潤材料。 -
プロセス。HDPFAテフロン
設備テフロン含浸アルマイト
サイズ(長さ×幅×高さ): - -.
17.5インチ×11.25インチ×4.65インチ(44.4cm×28.6cm×11.8cm)断熱材入り
16インチ×9.75インチ×3.15インチ(40.6cm×24.8cm×8.0cm)断熱材なし
重量: - 38 lbs (17 kg)
電力要件
スイッチバック 6600 を DC 0-144V、0-12.5A に設定します。
規格 - セミS2-0200、F47準拠、CE
保証: - 2年
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