単軸配置システム 782300:212.26
回転式ウェハー検査および計測学用半導体産業用

単軸配置システム - 782300:212.26  - Steinmeyer Holding GmbH - 回転式 / ウェハー検査および計測学用 / 半導体産業用
単軸配置システム - 782300:212.26  - Steinmeyer Holding GmbH - 回転式 / ウェハー検査および計測学用 / 半導体産業用
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特徴

軸の数
単軸
構造
回転式
応用
ウェハー検査および計測学用, 半導体産業用, 研究用
その他の特徴
ボールねじ, DCモーター, 高解像度, サーボ制御, 高精度
繰返し精度

最少: 0.002 µm

最大: 2.4 µm

ストローク

135 mm
(5.31 in)

速度

最少: 10 mm/s

最大: 50 mm/s

詳細

光学レンズ、シリンダーの位置決め用X Phiシステム カスタマイズ可能: - ウェハーや光学部品などの円形部品の光学測定に最適 - ストロークのある高精度回転運動により、ローディング軸の追加購入を節約 - 0.0017までの高い繰返し精度 - Xで1.9 µmを正確に測定位置に移動 このX-Phi位置決めシステムは、高精度で耐久性に優れた標準軸のPMT160リニアステージと、回転用のDTS130-HMで構成されています。試料を測定位置に正確に移動させる測定アプリケーションに最適で、追加の送り軸は必要ありません。 仕様 - 標準システムPMT160-DC (X) / DTS130 (Phi (Rz)) - トラベル: 135 mm (X) / n x 360 mm (Phi (Rz)) - 繰り返し精度:± 1.9 - ± 2.4 µm (X) / ± 0.0017 - ± 0.005 µm (Phi (Rz)) - 位置決め速度: 10 mm/s (X) / 50 mm/s (Phi (Rz)) - 最大荷重150 N (X) / 74 N (Phi (Rz)) - モーターDCモーター、ボールネジ (XZ) / ACサーボ (Phi (Rz)) - フィードバックリニアスケール (XZ) / 角度スケール (Phi (Rz)) カスタマイズ可能 - 300mmまでの移動量 - 花崗岩またはアルミニウム製ベースプレート - 内部スケール(270 mm)を使用可能 - DT200など他の回転ステージと組み合わせ可能 - クリーンルーム ISO 14644-1 用のバージョンも可能 - 例示ソフトウェアを含む設定済みコントローラで即使用可能

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