アパーチャー付き高分解能回転ステージ
HV/UHV、DUV、クリーンルームISO 6、n x 360°、rep 0.0005°、荷重3 kg、速度270°/秒
- クリーンルーム: ISO 6クラスまでのバリエーション(ご要望によりそれ以上のクラスにも対応可能)
- 真空:HV/UHVの全レンジ、最大10~11 mbar
- 潤滑液:最大10-8 mbar / 特殊構成ドライ:最大10-11 mbar
- ベークアウト温度ベークアウト温度100°C
オプションで設定可能
- 磁性体バージョンと低磁性体バージョンがあります。
特別構成としてマグネットフリー)
- 用途に合わせた材料選択と潤滑
- コントローラFMC400/450のオプション
- 3D設計、プロトタイプ、連続生産によるカスタマイズ開発
限られた設置スペースでの高解像度画像処理
このコンパクトでフラットな回転ステージは、高速プロセスにおいて真空中で極めて高い解像度を実現します。36mmの透過光により、微小サンプルの精密な位置決め、測定、分析が可能です。要求の厳しい多軸システムに組み合わせることができ、当社のFMC 400/450コントローラで簡単に制御できます。
応用分野
高精度でダイナミックな顕微鏡観察(例:AFM、電子顕微鏡、イオン顕微鏡、走査型電子顕微鏡、走査型トンネル顕微鏡、ラボ用顕微鏡、イメージングシステム、サンプル分析、ビームライン装置、シンクロトロン、材料研究、材料分析
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