高分解能、安定アパーチャロータリーステージ
UHV、DUV / EUV、クリーンルーム ISO 6、n x 360°、rep 0.0002°、速度 180°/秒、荷重 15 kg
- クリーンルーム: ISO 6クラスまで対応可能(ご要望によりそれ以上のクラスにも対応可能)。
- ビーム:UV、DUV、EUV(X線、ガンマ線は要相談)
- 真空:HV/UHVの全レンジ、最大10-11 mbar
- 潤滑:液体10-8 mbarまで/ドライ10-11 mbarまで
- ベークアウト温度ベークアウト温度120°C
オプション
- マグネット、低マグネット、マグネットフリー仕様あり
- 用途に合わせた材料選択と潤滑
- クリーンルーム用、研究室用、生産用バージョン
- FMC400/450 コントローラーまたは PLC 接続のオプション
- 3D設計、プロトタイプ、連続生産による顧客仕様の開発
応用分野
高解像度、安定性に優れた検査/顕微鏡、例:AFM、電子顕微鏡、イオン顕微鏡、走査型電子顕微鏡、走査型トンネル顕微鏡、半導体技術における透過光測定、ウェハー検査、ラボ顕微鏡、イメージングシステム、サンプル分析、ビームライン装置、シンクロトロン、材料研究、材料分析
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