- 真空:HV / UHV / EUVの全レンジで10-11 mbarまで対応
- 潤滑油:最大10-8 / ドライ:最大10-11mbar
- 最高温度ベークアウト温度120°C
- アパーチャー: 80 x 80 mm
オプションで設定可能
- 測定システム付きまたは測定システムなし
- オプションでリードスクリュー駆動または潤滑式ボールスクリュー駆動による高速化も可能
- 回転アプリケーション用に回転テーブル(例:DT155)との組み合わせが可能
- 用途に合わせた材料選択と真空潤滑方式
- チャンバー内の設置状況に合わせた個別対応
- クリーンルームISO 14644-1に準拠した設計(ご要望に応じてクラス1まで対応可能)
- コントローラFMC400/450をオプションで用意
ドライ運転でもナノメートル領域で最高の安定性を実現
透過光用アパーチャを備えた位置決めシステムは、2台のLT300リニアステージを組み合わせて、高真空、超高真空、極端な紫外線照射下での用途に適した、精密で頑丈なXYステージを形成しています。このシステムは完全無給油で動作します。クロスローラーガイドとリードスクリューのコンセプトにより、ナノメートル領域で非常に高い安定性を実現しています。また、オプションとして、潤滑式ボールネジ駆動による高速化も可能です。
応用分野
重量物の精密位置決め、超高真空・極端紫外線下での研究、試料調製、試料スキャン、試料ハンドリング、バイオチップ、カメラアライメント、材料研究、材料分析、ビームライン、加速器、シンクロトロン
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