- 真空:全レンジ HV / UHV / EUV 最大 10E-11 mbar
- 潤滑油:最大10E-8 / ドライ:最大10E-11 mbar
- 最高温度ベークアウト温度120°C
- クリーンルームクラス4 ISO 14644-1(ご要望によりクラス1まで対応可能)
- ドライ運転でも非常に長い寿命
オプションで設定可能
- ピエゾブレーク搭載可能
- 用途に応じた材料選択と真空潤滑方式
- チャンバー内の設置状況に合わせた個別対応
- クリーンルーム ISO 14644-1 用バージョン(ご要望に応じてクラス 1 まで対応可能)
- コントローラFMC400/450をオプションで用意
ナノメートル領域での安定性 最大10kgまでの高荷重にも対応
高真空や超高真空など、過酷な条件下で高い剛性を持つ負荷を位置決めするためのリニアステージです。ピエゾ式キャリパーブレーキを搭載し、ナノメートル領域での安定性を実現した位置決め装置です。
応用分野
超高真空・極端紫外線下での半導体技術、ウェハーアライメント、ウェハー検査、カメラアライメント、センサーアライメント、コンタクト検査、ミラーアライメント、プロービング、真空チャンバー、研究、ビームライン計測、電子機器組立・検査、高精度スキャニングアプリケーション
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