- 真空:全レンジ HV / UHV / EUV 最大 10E-11 mbar
- 潤滑油:最大10E-8 / ドライ:最大10E-11 mbar
- 最高温度ベークアウト温度120°C
- 磁気バージョンもあります
オプションで設定可能
- 用途に合わせた材料選択と真空潤滑方式
- チャンバー内の設置状況に合わせた個別対応
- クリーンルーム ISO 14644-1 用バージョン(ご要望に応じてクラス 1 まで対応可能)
- コントローラFMC400/450をオプションで用意
多軸システムの強力なコンポーネントとして、また複数のサンプルを同時にスキャンするために使用されます。超高真空中で高荷重をかけながら、垂直方向にも高精度の位置決めが可能です。
応用分野
多軸システムセットアップ、プロセスオートメーション、3Dスキャン、サンプルスキャン、イメージングシステムの位置決め、顕微鏡、サンプル分析、半導体検査、バイオテクノロジーおよび半導体技術における品質保証、研究、ビームライン、加速器、シンクロトロン
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