- 真空:HV全レンジ 10E-8 mbarまで
- 潤滑油:最大10E-8 mbar
- 最大ベークアウト温度100°C
オプションで構成可能
- 磁性体バージョンと低磁性体バージョンを用意
- 用途に応じた材料選択と真空潤滑方式を採用
- チャンバー内の設置状況に合わせた個別対応
- クリーンルーム ISO 14644-1 用バージョン(ご要望に応じてクラス 1 まで対応可能)
- コントローラFMC400/450をオプションで提供
高精度かつダイナミックな画像処理
コンパクトでフラットな回転ステージは、真空中の高速プロセスで極めて高い解像度を実現します。79mmという大きな透過光により、大きな試料も正確に位置決めし、測定・解析することができます。高度な多軸システムに組み合わせることができ、当社のFMC 400/450コントローラで簡単に制御することができます。
応用分野
高精度かつ動的な顕微鏡検査(例:電子顕微鏡、イオン顕微鏡、走査型電子顕微鏡、走査型トンネル顕微鏡、ビームライン装置、シンクロトロン、材料研究、材料分析、ウェハー検査、半導体品質管理、半導体研究など
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