XY軸配置システム 786001:002.26

縦型リニアウェハー運搬用

UV露光マスクのXYシータアライメント｜ドライ窒素雰囲気下でのウェーハ露光用高精度位置決め装置 精密組立品 786001:002.26 UV露光マスクのXYθアライメント｜乾燥窒素雰囲気下でのウェハ露光用高精度位置決めシステム - 精密組立品 過酷な条件下での微細構造形成のためのµmアライメント UV露光用マスクの高精度アライメント用に特別に開発された3軸マスクシステムです。X軸2本、Y軸1本の計3本のリニア軸を持ち、垂直方向のストローク（等速運動）と回転（逆速運動）の両方を発生させるパラレルキネマティックデザインを採用しています。これにより、紫外線照射下および超乾燥窒素雰囲気下において、ナノメートル領域での高精度な直線および回転位置決めを実現しました。 高精度UVウェーハ露光 - EUVリソグラフィーの高解像度化・自動化に最適 - 露光マスクのXYθを0.03 µradまで高精度にアライメント可能 - UVおよび超乾燥・無酸素の純窒素雰囲気に対応 - 潤滑剤とコーティングの統合コンセプトにより、散乱放射を最小化 - 柔軟な統合メンテナンスコンセプトにより、システムを光軸から横方向に移動させることができます。 オプションで拡張可能 - 様々なトラバースパス - アプリケーションに適合した材料選択と潤滑法 - お客様固有のアプリケーションに組み込むための個別のソリューション - クリーンルーム ISO 14644-1 用バージョン（ご要望に応じてクラス 1 まで対応可能）