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殺菌剤濃度の光計測・制御システム AWWA 4500-Cl G/EN ISO 7393-2に準拠した遊離塩素の標準DPD-メソッドに準拠 自動ゼロ値校正による高い精度と再現性 洗浄モジュールによるメンテナンスの軽減と、汚れに対する高い耐久性 遊離塩素 0-5 ppm 二酸化塩素 0〜6ppm オゾン 0~2ppm
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