純粋水素発生器 Phoenix-H-Genie Platform
研究所用プロセス卓上

純粋水素発生器 - Phoenix-H-Genie Platform - THALESNANO Inc. - 研究所用 / プロセス / 卓上
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特徴

ガスの特徴
純粋
分野
研究所用, プロセス
設定
卓上
吐出圧力

200 bar
(2,900.75 psi)

詳細

あらゆる発見、開発、プロセス、石油化学、触媒スクリーニングのラボで安全に使用できるように設計された水素化プラットフォームは、水からのin-situ高圧水素発生と、高温リアクター機能、および精密なガスデータモニタリングシステムを組み合わせています。化学者や化学エンジニアは、水素ボンベや水素インフラを必要とすることなく、450℃、100 barまでの均一系または不均一系触媒を用いて水素ベースの実験を行うことができます。 Phoenix-H-Genieプラットフォームの特徴 安全:このプラットフォームは、水の電気分解によってオンデマンドで水素を生成することにより、安全性を確保します。最大1NL/分の水素を発生させることができるため、どのような実験室でも安全に使用できます。この技術革新により、もはや水素ボンベは必要ありません。 多用途:このプラットフォームは、450℃までの温度と100 barまでの圧力に対応し、卓越した多用途性を提供します。同種および異種のリアクターセットを提供し、幅広い実験ニーズに対応します。 スケーラブル:様々な要求に対応するため、このプラットフォームは、自己充填可能なカートリッジまたはCatcartを提供しています。これらによって触媒の最適化と合成が可能になり、ミリグラムからキログラムまでの量の合成が可能になる。 精密:プラットフォームにはマスフローコントローラーが内蔵されており、水素の圧力と流量データを正確にモニターすることができます。収集されたデータはすべて、分析や記録保存のために簡単にエクスポートできます。 迅速:温度、水素圧、流量をその場で素早く変更できるため、このプラットフォームは実験の迅速な最適化を可能にし、貴重な時間を節約します。

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カタログ

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