VCSELダイオード レーザー

CW固体NIR

VCSELアレイに基づいたレーザー装置は、広い面積を調整済みの波長選択型赤外線で加熱することができます。このVCSEL加熱システムは、多数の工業用加熱プロセスで使用されています。高価な光学ユニットやスキャナーシステムなしで処理面に直接照射することが可能であるため、従来のレーザー装置に対してコスト面での大きな優位性が実現します。このシステムの比類のない特長として、正確な制御と赤外線出力の素早い切替に加えて、レーザーモジュールの小セグメントの独立制御により、立体的加熱形状が任意にプログラミング可能であることが挙げられます。動作中に加熱パターンを動的に変化させることさえも可能です。これにより、例を見ないプロセス柔軟性が実現します。 出力がkW範囲でスケーラブルであることからメリットがもたらされます。 VCSELレーザー装置の個々の放射ゾーンはそれぞれ独立制御が可能です。 照射強度100 W/cm²を誇るため、高いプロセス速度が得られます。 堅牢でコンパクトなレーザーモジュールは、工業設備と生産プロセスに簡単に統合可能です。