TRUMPFの短パルス及び超短パルスレーザは工業生産での使用に完璧に適しており、品質、生産性及び収益性のすべてにおいて最適化されたマイクロ加工が可能となります。特筆に値するパルス及び出力安定性は、パルス発生とパルス放出を分離することで実現します。特許取得済みのコントローラが個々のパルスを監視し、出力とパルスエネルギーをアプリケーションに合わせて正確に必要なレベルに維持します。また、TruMicro 5000シリーズのピコ秒レーザは、超短パルスと最大500 μJに達する高いパルスエネルギーを誇ります。さらにそのビーム品質も極めて優れており、平均出力は最大150 Wという高い数値を示します。その結果、微細材料加工での最高の生産性が保証されます。あらゆる材料が瞬時に気化するため、熱作用は発生しません。そのため、半導体素材、金属、誘電体、プラスチック及びガラスの加工に最適です。
超高速変調器が、指示通りの出力及びパルスエネルギーを発振します。
TruMicroレーザは簡単に統合することができ、全ての一般的なインタフェースとの互換性があります。
実績のあるTruMicro 5000シリーズのレーザは、製造現場で毎日使用されることを想定して設計されています。
熱に弱い材質をわずかな入熱量で加工します。
再生能力のあるディスクテクノロジーにより、単一パルスでも平均出力の100 %を実現