臨界次元測定システム MT270UV

光学半導体用高精度

TZTEKは、マスク製造時に必要とされる高精度で再現性の高いマスク計測システムを提供しています。マスクはGOG、PSM、その他があります。 FabでのマスクIQCの要求に対して、TZTEKはペリクルでマスクを保護するための長い作動距離の対物レンズを提供します。マスクのCD測定のために、システムは反射および透過モードの可視およびUV照明を提供します。UV照明は300nmまでの構造幅の測定に使用でき、再現性(3シグマ)はほとんど数ナノメートルの範囲です。 主な特徴 -マスククリティカル寸法測定 -最大6インチまでのマスクサイズに対応。 -可視光、紫外光の透過照明、反射照明が可能。 -SECS/GEM -低メンテナンスコスト、安定性、信頼性