普遍的なレーザーシステムは最も広く、最も適用範囲が広いプラットホームであるILS12.75を示す。 これは製造業界のためにとりわけ開発された。 それはプロトタイピングおよび自動化された製造業のようないろいろな適用のために適している。
ILS12.75に48 " x 24 " x12 "の次元の広い材料加工の封筒が、13,824 in3ある(1219年x 610 x 305のmm、226,795 cm3)。 ILS12.75は自在継手の通し窓の特徴を含んでいる。 この特徴は無制限の長さの材料を処理するための両側のドアの開始を可能にする。 自在継手のILSのプラットホームはまたCDRHのクラス1とCDRHのクラス4.間で変換可能の世界の唯一の二酸化炭素レーザーシステムである。
ILS12.75は二重レーザーの両立性を特色にする。 それ10ワット間のの提供の処理パワーの範囲、自在継手で自在継手の2つの75ワットのレーザーとの150ワットへの最も小さいレーザーのカートリッジと。 ILS12.75に巨大な処理パワーがある。 これはそれが独立生産装置として働くことを可能にする。 同時に、それはまた自動化された一貫作業と結合することができる。
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