ダイヤフラム式真空ポンプ MD 4C VARIO select

乾式230VAC3段

内蔵されたVACUU-SELECTコントローラは、使いやすいアプリケーションベースのインターフェースを提供し、一般的なラボのアプリケーションをすべてカバーします。VACUU-SELECTコントローラで対応可能です。単純なプロセスでは手動によるセットポイント制御を使用し、完全に自動化された蒸留を実行し、または簡単なドラッグアンドドロップ編集で独自のアプリケーションを作成します。溶媒の蒸発では、VACUU-SELECTコントローラが沸点を連続的に検出し、必要に応じて真空プロセスを自動的に調整します。VARIOのオンデマンドモータースピードコントロールは、静かな運転音と消耗品の長寿命を実現します。これらは完全に自動化され、プロセス時間の短縮と同時に、難しい混合物に対しても特別な感度で運転することができます。VARIO®コントロールは、沸騰遅延や発泡を防止することにより、高いプロセス信頼性を保証します。これは沸騰圧力を自動的に検出し、いつでも変化するプロセスパラメータに自己適応します。これは、パラメータ入力や溶媒ライブラリの使用を必要としません。VARIO®コントロールは、他の多くのアプリケーションや実験室の真空ネットワークにおいても、常に適切なポンプ速度を提供することにより、大きな利点をもたらします。 性能の特徴 VACUU-SELECT真空コントローラーは、グラフィカルユーザーインターフェイスと定義済みアプリケーションにより、ラボでの作業を簡素化します。 自動沸点検出と真空圧の調整により、短いプロセス時間を実現 ダイアフラムの長寿命化により、運用コストと保守コストを最小限に抑えます。 ほとんどの高沸点溶媒の高真空要求に対応