新しいATEX VARIO®化学ダイアフラムポンプと真空システムでは、モーターの回転数によって真空を正確に制御することができます。VARIO®ポンプは追加の制御信号ラインで駆動されます。オプションの真空コントローラーCVC 3000とシステムアクセサリー(I/O-モジュール、サプライ/アイソレーションアンプ)およびATEX真空センサーを使用すると、パラメータ設定やユーザープログラミングを必要としない完全自動のエバポレーションが可能になります。適応制御により、独立して沸騰圧力を検出し、蒸気圧に応じて連続的かつ最適に真空を調整します。
真空コントローラーとシステムアクセサリーは、非危険区域に設置されます。
性能面の特徴
セパレーターAKとエミッションコンデンサーEKを備えたATEX化学ダイアフラムポンプの利点を最大限に活用。
VARIO®:ヒステリシスのないVARIO®真空制御による短いプロセス時間
VARIO®。VARIO®ポンプは必要なときに必要なだけ動作します - 最小限の電力消費、メンテナンス間隔の延長、静音動作
VARIO®:真空コントローラーCVC 3000(オプション)による精密な真空制御と完全自動プロセスの実現
システムアクセサリー一式 I/Oモジュール、アイソレーションアンプ、ATEX真空センサーをワンソースで提供
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