チャンバー炉

真空自動工業用

炉当社の炉は、顧客の能力とニーズに応じて完全に異なる制御可能な加熱ゾーンを持つ両方のプロセスのための便利なツールと設計で完全に自動化されています。 当社の装置は、直径100mm、150mm、200mm、300mmのウェハタイプ用です。 真空FURNACES Vegatecは、マイクロエレクトロニクス、ナノエレクトロニクス、太陽光発電の実験室や産業のためのすべての自動化システムを備えた真空炉を設計し、製造しています。 これらの炉は以下の通りです。 低圧化学気相蒸着（LPCVD） プロセスは、 窒 化ケイ素TEOS酸化物低温酸化物（LTO）高温酸化物（HTO）ドープポリ シリコン酸化 ケイ素シリン シラン化プラズマ強化化学気相蒸着（PECVD） プロセスは、 シリ コーン酸化窒化 シリコーン酸化窒化 リンおよびホウ素ドーピング 真空アニーリング 真空炉の一般的な特徴 ユーザーフレンドリーな設計のおかげで使いやすく、メンテナンスが容易 高純度石英で作られた炉室とカンチレバータイプのサンプルホルダーは、 クラス10クリーンルームまで作業することができます 10-6までの真空下での作業能力 高品質のコンポーネントによる長寿命のおかげ 個別に制御可能な加熱ゾーン 簡単使用自動化インタフェース 手動または自動ロード 能力で異なるプロセスのコンパクトな設計のための積み重ね可能な炉チューブ各顧客の 実験室または産業規模に応じて容量