チャンバー炉 VIR

赤外線

VIR - 赤外線技術 赤外線技術では直接接触することなく、また空気や水などの転移媒体も使うことなくエネルギーを光速で電磁放射に転移することが可能です。そのため、赤外線加熱は真空状態やクリーンルーム環境など特に困難な使用領域にも適しています。紙や印刷、テキスタイルなどの産業、またガラスやセラミック、プラスティックなどの技術、複合材料や塗装剤などにも使用されます。 IR放射器の放射性能は取り扱い対象の製品の吸収性に合わせて最適に調整されます。赤外線システムを設計するためには取り扱い対象の製品の物理的パラメータをいくつか事前に知っておかなければなりません。当社施設ではこれらパラメータを判定するための赤外線試験を実施することができます。 おもな特長 • 低い加熱率・冷却率による高速加熱 • 高い熱出力の転移 • 別のVötsch製加熱・乾燥システムとの併用が可能 • 長波～短波の赤外線放射器、運転温度は300°C～3,000°C