Busch Vacuumの腐食防止真空発生器

到達真空度 : 0.03 mbar
流量: 85, 70 m³/h
出力: 4, 4.4 kW

要件の厳しいプロセス向けの気密性に優れた真空生成 高い性能 高度なスクリュー設計、特許取得のセルフバランシングスクリュー、コーティング用途、ヘリウムの吸引またはフッ素化に最適 高効率性 所有コストの低さ、最小限のメンテナンス、長いサービス間隔、優れたアップタイム、効率的な水冷方式 気密設計 一体型モーター、プロセスガスの汚染なし、高気密

到達真空度 : 0.03 mbar
流量: 160, 135 m³/h
出力: 6.6, 5.5 W

要件の厳しいプロセス向けの気密性に優れた真空生成 高い性能 高度なスクリュー設計、特許取得のセルフバランシングスクリュー、コーティング用途、ヘリウムの吸引またはフッ素化に最適 高効率性 所有コストの低さ、最小限のメンテナンス、長いサービス間隔、優れたアップタイム、効率的な水冷方式 気密設計 一体型モーター、プロセスガスの汚染なし、高気密

到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 600 m³/h
出力: 15 kW

要件の厳しいプロセス向けの気密性に優れた真空生成 高い性能 高度なスクリュー設計、特許取得のセルフバランシングスクリュー、コーティング用途、ヘリウムの吸引またはフッ素化に最適 高効率性 所有コストの低さ、最小限のメンテナンス、長いサービス間隔、優れたアップタイム、効率的な水冷方式 気密設計 一体型モーター、プロセスガスの汚染なし、高気密

到達真空度 : 0.03 mbar
流量: 85, 70 m³/h
出力: 4, 2.6, 4.4, 3.2 kW

厳しい要件のプロセス向けの新世代ドライ真空ポンプ 高い性能 高度なスクリュー設計、優れた運転品質、CVD、ラピッドサーマルプロセス、ALDに最適 高効率性 所有コストの低さ、最小限のメンテナンス、長いサービス間隔、優れたアップタイム、効率的な間接水冷方式、優れた水素処理能力 コンパクト 設置場所を選ばない設計、直結のキャンドモーター

到達真空度 : 0.03 mbar
流量: 160, 140 m³/h
出力: 6.6, 5.2, 5.5, 4.3 kW

厳しい要件のプロセス向けの新世代ドライ真空ポンプ 高い性能 高度なスクリュー設計、優れた運転品質、CVD、ラピッドサーマルプロセス、ALDに最適 高効率性 所有コストの低さ、最小限のメンテナンス、長いサービス間隔、優れたアップタイム、効率的な間接水冷方式、優れた水素処理能力 コンパクト 設置場所を選ばない設計、直結のキャンドモーター

到達真空度 : 0 mbar
流量: 610, 500 m³/h
出力: 3 kW - 4 kW

厳しい要件のプロセス向けの新世代ドライ真空ポンプ 高い性能 高度なスクリュー設計、優れた運転品質、メカニカルブースターポンプ搭載、CVD、ラピッドサーマルプロセス、ALDに最適 高効率性 所有コストの低さ、最小限のメンテナンス、長いサービス間隔、優れたアップタイム、効率的な間接水冷方式、優れた水素処理能力 コンパクト 設置場所を選ばない設計、直結のキャンドモーター、バックポンプ、メカニカルブースターポンプをコンパクトなベースフレーム上に設置

到達真空度 : 0 mbar
流量: 960, 775 m³/h
出力: 5.5 kW - 6.8 kW

厳しい要件のプロセス向けの新世代ドライ真空ポンプ 高い性能 高度なスクリュー設計、優れた運転品質、メカニカルブースターポンプ搭載、CVD、ラピッドサーマルプロセス、ALDに最適 高効率性 所有コストの低さ、最小限のメンテナンス、長いサービス間隔、優れたアップタイム、効率的な間接水冷方式、優れた水素処理能力 コンパクト 設置場所を選ばない設計、直結のキャンドモーター、バックポンプ、メカニカルブースターポンプをコンパクトなベースフレーム上に設置

到達真空度 : 0 mbar
流量: 1,640, 1,365 m³/h
出力: 5.5, 6.8 kW

厳しい要件のプロセス向けの新世代ドライ真空ポンプ 高い性能 高度なスクリュー設計、優れた運転品質、メカニカルブースターポンプ搭載、CVD、ラピッドサーマルプロセス、ALDに最適 高効率性 所有コストの低さ、最小限のメンテナンス、長いサービス間隔、優れたアップタイム、効率的な間接水冷方式、優れた水素処理能力 コンパクト 設置場所を選ばない設計、直結のキャンドモーター、バックポンプ、メカニカルブースターポンプをコンパクトなベースフレーム上に設置