CARBOLITE GEROの圧力炉

温度: 2,200 °C
容量: 8 l - 600 l
幅: 1,300, 2,500, 2,300, 2,100, 1,900 mm

グラファイト炉 HTK GRは低/高真空、窒素やアルゴンといった保護ガス、水素や一酸化炭素のような反応性ガスを使用することが出来ます。グラファイト炉 HTK GRはグラファイト製断熱材のため酸素雰囲気下で使用することは出来ません。 前面ドア付きの長方形チャンバ設計により、サンプルのロード、アンロードが容易です。HTK GRは6容量から選択できます。最小サイズの8L、中容量の25Lは研究室やR＆Dに最適です。80L、220L、400L、600Lのタイプはパイロットプラント用、または生産用システムとして使用できます。 HTK ...

温度: 1,350, 1,800 °C
容量: 8 l - 600 l
幅: 1,300, 1,900, 2,300, 2,500 mm

フロントドア付きの長方形のデザインで、搬入・搬出が容易です。HTKシリーズには最大で6種類のサイズがあります。8リットルと25リットルの容量を持つ最小のデザインは、一般的に研究開発を行う研究所で採用されています。80 リットル、220 リットル、400 リットル、600 リットルの炉は、主にパイロット製造システムや大規模生産に使用されます。 炉は、規定の酸素混合ガスまたは100%純酸素で使用できます。発熱体はCrFeAlで最高温度は1350 °C、またはMoSi2で最高温度は1800 ...

温度: 1,600, 2,200 °C
容量: 25, 60, 10 l
幅: 2,300 mm

金属フード炉(HBO)は、達成可能な最も低い動作圧力を発生させます。真空機能により、最高純度のガス雰囲気が得られます。 構造に使用される材料は、最高温度で最も低い蒸気圧になるように選択されています。発熱体や断熱材を傷つけることなく、最高温度での熱処理が可能。断熱のための放射線シールドは発熱体と同じ材料で作られており、繊維状の断熱材は使用されていません。 HBO炉には、モリブデン製の発熱体と輻射シールドを使用した1600℃までの使用に適したものと、タングステン製の発熱体と輻射シールドを使用 ...

温度: 2,200, 1,600 °C
容量: 60 l
幅: 2,400 mm

金属炉は60リットルの容積で提供されます。HTBL 60 MO/16-1Gの最高温度は1600℃で、モリブデン製の輻射シールドと発熱体を使用しています。HTBL 60 W/22-1Gの最高温度は2200℃で、タングステン製の輻射シールドと発熱体を使用しています。HTBLの金属製バージョンは、最も純粋な雰囲気と最高の作業真空レベルを生成するのに適しています。 HTBLタイプの炉は、搬入・搬出が容易であるという明確な利点があります。ハースが下降すると、サンプルは制限なく全方向からアクセスできます。特にデリケートなサンプルの装填は非常に簡単でユーザーフレンドリーです。また、試料の熱電対を炉内の所定の位置に設置することができます。HTBLではレトルトも使用できます。ローディングエリアの移動は、油圧アームによって完全に自動化されています。ローディングエリアが最も低い位置に到達した後、ユーザーは手動でローディングプラットフォームを外側に90°回転させることができます。 窒素、アルゴン、水素の各ガスは、純ガスまたは混合ガスとして使用できます。ご要望に応じて他のガスを導入することも可能です。炉内では、規定のガス流量を確保するために、わずかな過圧または制御された分圧を使用することができます。空気での運転はできません。 様々な投与装置および制御装置がすべてのガスを制御します。要求される真空度に応じて、真空ポンプは用途に応じて、あるいは要求に応じて特別に構成されます。最高の均一性を実現するために、温度は独立して制御されます。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 2,200 °C
容量: 50, 80, 200 l
幅: 2,400 mm

HTBLタイプの炉の明確な利点は、装填と取り出しが容易なことです。ハースが下がると、サンプルは制限なく全方向からアクセスできます。特にデリケートなサンプルの装填は非常に簡単でユーザーフレンドリーです。また、試料の熱電対を炉内の所定の位置に設置することができます。HTBLではレトルトも使用できます。ローディングエリアの移動は、油圧アームによって完全に自動化されています。ローディングエリアが最も低い位置に到達した後、ユーザーは手動でローディングプラットフォームを外側に90°回転させることができます。 窒素ガス、アルゴンガス、水素ガスは、純ガスまたは混合ガスとして使用できます。ご要望に応じて他のガスを導入することも可能です。炉内では、規定のガス流量を確保するために、わずかな過圧または制御された分圧を使用することができます。空気での運転はできません。 様々な投与装置および制御装置がすべてのガスを制御します。要求される真空度に応じて、真空ポンプは用途に応じて、あるいは要求に応じて特別に構成されます。最高の均一性を実現するために、温度は独立して制御されます。 アプリケーション例 annealing, ...

温度: 0 °C - 1,600 °C

水素管状炉システムは、好評のHTRH 16/100/600システムをベースにしています。この炉は、水素ガスの安全な取り扱いに必要なすべての規制を満たすように設計されています。 原則として、すべての管状炉は水素を安全に取り扱うために改造することができます。このシステムは、長年の実績を持つHTRH 16/100/600管状炉をベースにしています。このシステムでは、両端に水冷式のリークタイトフランジを備えたセラミックチューブを使用しています。この管状炉は、純水素雰囲気下でも1600℃までの熱処理が可能です。セラミック管には、安全のため、水素ガスを導入する前に自動的に不活性ガスが充填されます。不活性ガスは、高圧の不活性ガスが充填されたフラッディングタンクシステムによって供給されます。熱処理の前に管内に残っている酸素をパージするために、フラッディングタンクは排出され、その後再充填されます。ガス排出システムは、水素を燃焼させるためのアフターバーナに接続されている。 アフターバーナへのガス流入口は、システム内での凝縮物の発生を防ぐために加熱される。アフターバーナは、圧縮空気とプロパンガスで駆動する。アフターバーナは、水素をはじめ、プロセス中に発生するすべてのガス状の副生成物を燃焼させる。 すべてのガスは、完全に自動化されたフローコントローラーによって制御されます。誤動作が検出された場合、システムは直ちに安全な状態になります。すべての機器はSIL2規格に準拠して製造されている。炉の上部には水素センサーが設置されており、水素の漏れが検知されると、センサーが即座に反応します。水素漏れが検出された場合、炉内を不活性ガスで充満させ、システムを安全な状態にします。炉の制御は、直感的で使いやすいタッチパネルのインターフェースでプログラムされています。 すべての管状炉は、水素を使用するためのベースシステムとして機能するため、異なる使用空間と温度が可能です。1800℃以上の水素が必要な場合は、コールドウォール炉を選択する必要があります。 アプリケーション例 annealing, ...